Açıklama
Atomic Layer Deposition İnce Film Üretim Sistemi
TERMAL ATOMİK KATMAN BÜYÜTME (Teknik Bilgi)
Termal ALD sistemi ile AL2O3 , TiO2, ZnO ve HfO2 gibi katmanlar ve daha fazlası yapılabilmektdir. Vakum pompası 2mtorr değerlerine ulaşabilir. 200-300mtorr değerlerinde proses basıncı ile optimize edilmiş katmanlar büyütülebilmektedir. Düşük ısılarda örneğin 80 derecede filmler üretilmesi farklı tasarımlara esneklik sağlayabilmektedir. Özgün ve yerli üretim olduğundan bakım arıza konusunda çok kolaylık sağlamaktadır.
